查詢結果
檢索結果筆數(27)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
-
題 名:
多孔式噴灑頭對於CVD反應室內之流場影響研究:Effect of Showerhead on the Flow Field Distribution in CVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁32-38
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁39-52
-
-
題 名:
金屬有機化學氣相沉積製程與設備技術:Metal Organic Chemical Vapor Deposition Method and Apparatus
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
285 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁51-59
-
題 名:
-
-
題 名:
CVD腔體高溫流場影響研究:Investigation of Flow Patterns in High Temperature Chemical Vapor Deposition Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
387 2015.06[民104.06]
- 頁 次:
頁45-52
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
399 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁83-96
-
-
題 名:
多孔式噴灑頭CVD腔體之流場可視化技術:Study of Showerhead CVD Reactor by Use of Flow Visualization Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
375 2014.06[民103.06]
- 頁 次:
頁103-112
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
85:2 2012.04[民101.04]
- 頁 次:
頁25-35
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁26-33
-
-
題 名:
金屬有機化學氣相沉積製程與設備技術:Metal Organic Chemical Vapor Deposition Method and Apparatus
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁34-42
-
題 名:
-
-
題 名:
超低色溫OLED光源模組之製造技術/:Fabrication of Very Low Color Temperature Organic Light Emitting Diodes Module
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁59-67
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
278 2011.09[民100.09]
- 頁 次:
頁44-50
-
-
題 名:
大面積LPCVD氣流場模擬分析:Analysis of Flow Field in a Large-scale LPCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁10-18
-
題 名:
-
-
題 名:
創新OLED生產技術加速OLED商品化:New Manufacture Technology Advance the OLED to Commercialize
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁145-153
-
題 名:
-
-
題 名:
MOCVD反應室內基板旋轉對流場之影響研究:Effect of Substrate Rotation on Flow Field Distribution in MOCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁154-160
-
題 名:
-
-
題 名:
應用3D多體積方法模擬LPCVD之氣流場:The Simulation of Flow Field in LPCVD Using 3D Volumes Method
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁87-95
-
題 名:
-
-
題 名:
原子層沉積技術的沿革:The Development of Atomic Layer Deposition Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁51-57
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁96-103
-
-
題 名:
MOCVD磊晶製程參數系統優化技術:Optimization through MOCVD CyberEpi Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
435 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁41-46
-
題 名:
-
-
題 名:
低壓電漿顯影的流場可視化技術:Flow-field Visualization Technology for Low Pressure Plasma Discharge
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
435 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁47-53
-
題 名:
-
-
題 名:
CVD磊晶物理模型系統分析技術:CVD Analysis Technology for Epitaxy Physical Model System
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
423 2018.06[民107.06]
- 頁 次:
頁31-39
-
題 名: