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雙層超薄Ru/Ta-Si-C擴散阻障層與銅連導線製程特性探討:Properties of Ultrathin Ru/TaSiC Bi-Layer Diffusion Barrier for Cu Interconnects
黃孟碩 王漢瑜 方昭訓 Huang, Meng-shuo; Wang, Han-yu; Fang, Jau-shiung;
真空科技
25:3 2012.09[民101.09]
頁33-38
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