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多片行星式MOCVD爐內磊晶薄膜均勻度的研究:Uniformity of Thin Film Deposited in a Multi-Wafer Planetary Type MOCVD Reactor
姜庭隆 熊京民 張明豪 Chiang, Ting-lung; Hsiung, Chin-min; Chang, Ming-hau;
燃燒季刊
19:2=69 2010.05[民99.05]
頁47-56
TCI引用統計