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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
222 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁191-197
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
222 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁206-212
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
246 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁29-36
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
242 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁67-73
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
242 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁74-80
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
234 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁140-147
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題 名:
低壓化學氣相沉積應用技術:Low Pressure Chemical Vapor Deposition Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁72-81
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁84-90
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題 名:
大面積LPCVD氣流場模擬分析:Analysis of Flow Field in a Large-scale LPCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁10-18
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁47-51
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題 名:
矽薄膜太陽能電池之矽鍍膜設備技術發展近況:The Tendency of Silicon Film Deposition Technology for Thin Film Solar Cell
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
270 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁42-49
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題 名:
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題 名:
應用3D多體積方法模擬LPCVD之氣流場:The Simulation of Flow Field in LPCVD Using 3D Volumes Method
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁87-95
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:2 2010.06[民99.06]
- 頁 次:
頁56-61
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題 名:
真空鍍膜設備大型加熱裝置之定位與支撐技術:Position and Support Structure for Large Area Susceptor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁104-107
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
290 2007.05[民96.05]
- 頁 次:
頁82-87
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題 名:
矽薄膜太陽能電池之矽鍍膜設備技術發展近況:The Tendency of Silicon Film Deposition Technology for Thin Film Solar Cell
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
302 2008.05[民97.05]
- 頁 次:
頁15-22
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
302 2008.05[民97.05]
- 頁 次:
頁23-40
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
435 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁54-65
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題 名:
複合薄膜及多層膜的應力分析技術:Stress Analysis Technology for Multilayer Thin Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
423 2018.06[民107.06]
- 頁 次:
頁87-97
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題 名:
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題 名:
漸變式折射複合光學薄膜技術:The Composite Optical Film with Gradient Refraction Index Process
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
411 2017.06[民106.06]
- 頁 次:
頁24-40
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題 名: