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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
59 1999.04[民88.04]
- 頁 次:
頁13-16
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
43:2 2013.04[民102.04]
- 頁 次:
頁307-318
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題 名:
The Study of Nano-thin Film Measurement Based on Surface Plasmon Excitation:基於表面電漿子激發的奈米薄膜量測之研究
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
67 2014.11[民103.11]
- 頁 次:
頁71-76
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題 名:
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題 名:
使用XR與XPS分析二氧化鉿薄膜退火之膜層結構變化:Layer Structure Analysis of Thin HfO₂ Film by XR and XPS Technique
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁4-12
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
84:6 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁40-47
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
128 2009.07[民98.07]
- 頁 次:
頁59-63
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
89 民94.03
- 頁 次:
頁43-53
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
101 2008.03[民97.03]
- 頁 次:
頁79-85
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
447 2020.06[民109.06]
- 頁 次:
頁42-49
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
42:6 2021.12[民110.12]
- 頁 次:
頁551-560