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Method for Analyzing Effective Polishing Frequency and Times for Chemical Mechanical Planarization Polishing Wafer with Different Polishing Pad Profiles:化學機械研磨對不同研磨墊外形研磨晶圓之有效研磨頻率及有效研磨次數分析方法
林榮慶 陳健忠 Lin, Zone-ching; Chen, Chein-chung;
中國機械工程學刊
26:6 民94.12
頁671-676
TCI引用統計