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Optimizing Degradation of Reactive Yellow 176 by Dielectric Barrier Discharge Plasma Combined with TiO₂ Nano-Particles Prepared Using Response Surface Methodology:
Shen, Yongjun; Han, Shuo; Xu, Qihui; Wang, Yi; Xu, Zengyi; Zhao, Bing; Zhang, Ruiping;
Journal of the Taiwan Institute of Chemical Engineers
60 2016.03[民105.03]
頁302-312
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