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Particle Deposition on a 300 mm Wafer Moving in the Opposite Direction of the Airflow in a Uni-directional Cleanroom:
Shih, Yang-cheng; Hu, Shih-cheng; Ku, Chen-wei; Chein, Reiyu;
Aerosol and Air Quality Research
10:4 2010.08[民99.08]
頁316-322
TCI引用統計