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上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:5=53 1991.05[民80.05]
- 頁 次:
頁53-68
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題 名:
顯著SAR影像方位參數之統計檢定:Statistical Testings for Determining Significant SAR-Image Orientation Parameters
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:1 2001.04[民90.04]
- 頁 次:
頁21-30
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題 名:
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題 名:
工業設計專案管理之研究:A Study of the Industrial Design Project Management
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:4 2000.10[民89.10]
- 頁 次:
頁357-363
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2:4 1997.12[民86.12]
- 頁 次:
頁77-92
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
1:1 1996.12[民85.12]
- 頁 次:
頁37-57
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
83 1993.11[民82.11]
- 頁 次:
頁72-80
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- 題 名:
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編 次:
下
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
104 1995.08[民84.08]
- 頁 次:
頁106-113
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- 題 名:
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編 次:
上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
103 1995.07[民84.07]
- 頁 次:
頁109-116
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28 1990.05[民79.05]
- 頁 次:
頁59-66
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 1993.03[民82.03]
- 頁 次:
頁35-46
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:1 1990.03[民79.03]
- 頁 次:
頁21-29
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題 名:
Materials and Processes in Microlithography for IC Fabrication:積體電路微影成像之材料與製程
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:2 1990.09[民79.09]
- 頁 次:
頁1-7
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題 名:
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題 名:
DQN Photoresist with Tetrahydroxydiphenylmethane as Ballasting Group in PAC:以四羥基二苯甲烷為感光物中間體之光阻劑研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:1 1991.04[民80.04]
- 頁 次:
頁23-27
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8 1988.06[民77.06]
- 頁 次:
頁117-139
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:2 民95.09
- 頁 次:
頁23-29
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
64 2007.12[民96.12]
- 頁 次:
頁1-3
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
58 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁65-76
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
96 2022.03[民111.03]
- 頁 次:
頁58-63