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Photosensitizor Enhanced Main Chain Scission of Poly (methylphenylsilane) as a Self-Development Resist:以光敏劑增強主鏈斷鏈之聚甲基苯基矽烷做為自我顯像阻劑
龍文安 何銘燁 洪維民
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
16:1 1992.01[民81.01]
頁74-78
TCI引用統計