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題名 | Development of a New Line Scanning Mask-Based Photo-Curing RP System for Concept Modeling=一種新型線掃描光罩式快速原型系統研發與概念模型應用 |
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作者 | 鄭正元; 葉怡昌; 蔡明忠; Jeng, Jeng-ywan; Tsai, Ming-jong; Yeh, Y. C.; |
期刊 | 中國機械工程學刊 |
出版日期 | 200110 |
卷期 | 22:5 2001.10[民90.10] |
頁次 | 頁371-376 |
分類號 | 471.7 |
語文 | eng |
關鍵詞 | 線掃描光罩式快速原型系統; Line scanning mask based RP system; Rapid prototyping; |