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題名 | 大氣壓力游離式質譜儀在半導體工業之應用= |
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作者 | 莊麗津; 楊正平; 劉秋明; |
期刊 | 科儀新知 |
出版日期 | 19981000 |
卷期 | 20:2=106 1998.10[民87.10] |
頁次 | 頁21-29 |
分類號 | 343.381 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 大氣壓力游離式質譜儀; 半導體工業; |
中文摘要 | 大氣壓力游離式質譜儀是於大氣壓力下以電暈放電為游離方式的質譜儀,偵測極 限可達 ppt,其可應用於半導體工業上四種製程用總氣 N �砥BA r、He、H �砟中ㄞ穠咫坐� 析。本文將以實際量測的數據說明大氣壓力游離式質譜儀是一套高靈敏度、高穩定度、低偵 測極限的分析儀器,並已自動化及具有快速線上分析能力,使其愈來愈受到半導體工業的重 視。 |
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