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題名 | Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching=金屬蝕刻時電漿充電損害效應的探討 |
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作者 | 林鴻志; 王夢凡; 簡昭欣; 黃調元; 張俊彥; | 書刊名 | Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering |
卷期 | 22:3 1998.05[民87.05] |
頁次 | 頁416-424 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 金屬蝕刻; 電漿; 充電損害效應; Plasma; Metal-oxide-semiconductor transistor; MOS transistor; Antenna effet; |
語文 | 英文(English) |