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來源資料
真空科技
9:2 1996.07[民85.07]
頁11-17
電化學工業
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題 名
陰極電弧法沉積之類鑽薄膜=Cathodic Arc Deposition of Diamond-Like Films
作 者
柯賢文
;
江祿峰
;
劉進興
;
書刊名
真空科技
卷 期
9:2 1996.07[民85.07]
頁 次
頁11-17
分類號
468
關鍵詞
陰極電弧法沉積
;
類鑽薄膜
;
語 文
中文(Chinese)
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