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題名 | 氧化鋅薄膜原子層沉積之研究=ZnO Films Prepared by Atomic Layer Deposition |
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作者 | 劉光璧; 嚴國藝; 龔志榮; 蕭琦穎; 楊竣雄; 紀威旭; 呂東原; 林泰源; 王慶鈞; 李侃峰; 黃振榮; 梁沐旺; 吳慶輝; 羅展興; Liu, Kuang-pi; Yen, Kuo-yi; Gong, Jyh-rong; Hsiao, Chi-ying; Yang, Jing-hsung; Chi, Wei-hsu; Lyu, Dong-yuan; Lin, Yai-yuan; Wang, Ching-chiun; Lee, Kang-feng; Huang, Jen-rong; Liang, Muh-wang; Wu, Ching-huei; Lo, Alfred; |
期刊 | 真空科技 |
出版日期 | 20100600 |
卷期 | 23:2 2010.06[民99.06] |
頁次 | 頁56-61 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 原子層沉積; 氧化鋅; Atomic layer deposition; Zinc oxide; |