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題名 | 先進光罩清洗技術--Puddle Megasonic Nozzle及導電性原子力顯微鏡之應用= |
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作者 | 陳明志; |
期刊 | 電子月刊 |
出版日期 | 20130300 |
卷期 | 19:3=212 2013.03[民102.03] |
頁次 | 頁160-171 |
分類號 | 448.59 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 覆液式兆聲波噴嘴; 次解析輔助特徵; 導電性原子力顯微術; 穴蝕能量; 高導電區域; Puddle megasonic nozzle; Sub-resolution assist feature; SRAF; Conducting atomic force microscopy; CAFM; Cavitation energy; Highly conducting regions; |
中文摘要 | 近來在光罩產業,藉由兆聲波噴嘴(megasonic nozzle)清洗使次解析輔助特徵(SRAF)達到無損傷的清洗技術已成為一主要挑戰。本文藉由無硫酸清洗設備(non-sulfate cleaning tool),研究1 MHz覆液式兆聲波噴嘴的各項性能參數,如兆聲波功率、覆液式噴嘴與清洗表面的間距,對尺寸為107 nm、93 nm、81 nm、71 nm、63 nm及56 nm的不透光(opaque) SRAF清洗所產生的影響;本文結果顯示,對含MoSi層的先進光罩且小至71 nm的SRAF尺寸並屬38 nm技術結點(technology node)(MPU/ASIC 1/2 pitch, as outlined in ITRS 2010)能達到無損傷、高效能的去微塵清洗。此外,本文亦以導電性原子力顯微術(CAFM)為工具,研究以1 MHz覆液式兆聲波噴嘴清洗後的金屬鉻二元式空白光罩(chrome binary blank),其奈米尺度的表面電氣特性;結果顯示,在氧化鉻表層(chrome oxide)的高導電區域,可被視為「多穴蝕現象(cavitation-rich)且(或)強穴蝕能量(cavitation energy-strong)」的區域。且該區域之尺寸大小約為15至100 nm,與SRAF損傷的尺寸大小相近。最後,對於檢驗先進空白光罩(如EUV blank)於奈米尺度下的本質缺陷(intrinsic defect),CAFM在將來有機會成為有力的檢驗工具。 |
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