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題名 | 以推論多項式網路預測晶圓表面不均勻度=Prediction of Nonuniformity on Wafer Surface Using an Abductive Polynomial Network |
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作者 | 黃彥志; 郭俊廷; 林有鎰; 邱傳聖; Huang, Yen-chih; Guo, Jyun-ting; Lin, Yeou-yih; Chiou, Chuan-sheng; |
期刊 | 桃園創新學報 |
出版日期 | 20121200 |
卷期 | 32 2012.12[民101.12] |
頁次 | 頁73-92 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 化學機械研磨; 推論多項式網路; 邊界元素; 不均勻度; CMP; Abductive polynomial network; BEM; Nonuniformity; |