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題名 | 專利法修法後設計專利所面臨的重點議題=Some Issues Encountered of Design Patent after Amending the Patent Act |
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作者 | 葉哲維; Yeh, Che-wei; |
期刊 | 智慧財產權月刊 |
出版日期 | 20110600 |
卷期 | 150 2011.06[民100.06] |
頁次 | 頁5-39 |
分類號 | 440.6 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 新式樣; 設計; 專利法修法; 部分設計; 圖像設計; 成組設計; 衍生設計; |
中文摘要 | 摘要 近年來,我國之設計產業呈蓬勃之發展,並已逐漸成為我國最具實力 與代表性之重點產業之一。然而,反觀我國之設計保護制度,並未能跟得 上設計產業之腳步,相較於各先進國家的設計保護制度顯得相對保守而明 顯不足。有鑑於此,智慧財產局於95 年即開始徵詢業界之修法建議並完 成修法之公聽,目前配合整部專利法之修法已送交立法階段。 本文即是為因應未來施行新法之「設計專利」制度時,對於可能遭遇 之重點議題提出討論,同時亦藉修法之際對現行新式樣專利實體審查基準 重新予以檢視,內容包含幾個主題:「設計定義的修正」、「揭露要件的放 寬」、「專利要件的重新檢視」、「各種申請標的所產生的交互關係」。期望 藉筆者之拙見,對於未來施行新法之設計專利制度能有所助益,並最終能 促使我國未來之設計保護制度更趨完善周全。 |
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