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題名 | 接觸轉印與光罩植入式顯影技術與應用=The Technology and Applications of Contact-Transferred and Mask-Embedded Lithography |
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作者 | 邱正宇; 李永春; |
期刊 | 臺灣奈米會刊 |
出版日期 | 20081200 |
卷期 | 15 2008.12[民97.12] |
頁次 | 頁22-30 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 微影技術; 奈米壓印; 奈米結構; 聚醯亞胺; 表面聲波元件; Lithography; Nanoimprinting; Nanostructure; Polyimide; Surface acoustic wave device; |