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題名 | 研究發展外溢之產出成長效果與動態調整過程--臺灣電力電子業之實證研究=Dynamic Adjustments of the Intra- and Inter-Industry R&D Spillovers: Evidence from Taiwanese Electronics Plant Level Data |
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作者 | 蔡蕙安; 陳致綱; Tsai, Diana H.; Chen, Jhih-gang; |
期刊 | 人文及社會科學集刊 |
出版日期 | 200209 |
卷期 | 14:3 2002.09[民91.09] |
頁次 | 頁289-327 |
分類號 | 555.9 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 研究發展; 外溢效果; 產業動態模型; 臺灣電力電子業; R&D spillovers; Adjustment speed; Industry dynamic model; Taiwanese electronics industry; |