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題名 | 我國部分設計專利與日本部分意匠專利之差異探討=The Difference in Portion Design Patent between Taiwan and Japan |
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作者 | 劉信邦; 徐嘉鴻; 呂正和; 魏鴻麟; Liu, Hsin-pang; Hsu, Chia-hung; Lu, Cheng-her; Way, Hong-lin; |
期刊 | 智慧財產權月刊 |
出版日期 | 20140100 |
卷期 | 181 2014.01[民103.01] |
頁次 | 頁5-58 |
分類號 | 440.6 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 設計專利; 部分設計; 部分意匠; 實線; 虛線; |
中文摘要 | 在知識經濟與全球化的衝擊下,為鼓勵創新研發與創意發展,智慧財產儼然 成為國家發展與產業競爭力的關鍵,尤其是專利制度之保護與運用。近年來各國 專利訴訟中,已出現使用設計專利做為主要訴訟攻擊標的,例如2011年起蘋果公 司對三星公司所掀起的訴訟戰爭,大家開始注意設計專利的重要性。 我國將「部分設計」納入設計專利保護標的,一方面乃為了鼓勵傳統產業 對於既有資源之創新設計,另一方面為因應國內產業界在成熟期產品開發設計需 求,爰參酌日本意匠法第2條、韓國設計法第2條、歐盟設計法第3條等之部分設 計(partial design)之立法例,以強化設計專利權之保護。而日本意匠法早在1999 年開始實行部分意匠制度,目的為了保護物品之部分具有新穎特徵之創作,防止 第三者僅模仿其部分新穎特徵,使申請人有更周延的設計保護範圍。 因此,為了解兩國在設計專利制度之現況與未來發展趨勢,特別針對兩國 的部分設計審查實務之差異進行比較研究,對於在設計定義、揭露方式、一設計 一申請、主張國際優先權認可、修正、新穎性及創作性之判斷等議題進行比較分 析,以作為未來我國設計專利相關法規及審查基準之修訂參考。 |
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