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題名 | ArF 193nm光阻的現今地位與未來展望= |
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作者 | 廖明吉; |
期刊 | 國科會國家毫微米元件實驗室通訊 |
出版日期 | 19980300 |
卷期 | 5:1 1998.03[民87.03] |
頁次 | 頁26-29 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | ArF 193nm光阻; |
中文摘要 | 在本文中,我們將討論 ArF 193nm 光阻目前的狀況及未來發展的方向。因為設計 尺寸愈來愈小, 現有 KrF 248 微影技術已漸漸不能滿足下一世代產品的須求,所以要能再 得到更好的解析度及在較小線寬有較佳製程寬容度( process window ),ArF 193nm 微影 技術將是下一代微影技術最佳的選擇,它可延續現有光學微影技術的壽命,且能有效使用現 有光學微影技術之光罩材料與技術, 立即用於 ArF 193nm 微影成像技術,並使半導體元件 技術朝小尺寸邁進。 |
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