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| 題 名 | 電子束曝寫技術應用於光電元件之介紹=The Application of Electron Beam Lithography for Optical Devices |
|---|---|
| 作 者 | 楊詔中; 黃戎巖; 潘正堂; 黃珩春; | 書刊名 | 機械工業 |
| 卷 期 | 257 2004.08[民93.08] |
| 頁 次 | 頁231-238 |
| 專 輯 | 微機電技術專輯 |
| 分類號 | 448.59 |
| 關鍵詞 | 電子束微影; 光子晶體; 刻板製程; E-beam lithography; Photonic crystal; Mastering technology; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |