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| 題 名 | 電子束刻版機在奈米光儲存及奈米光子技術上的應用=Application of E-Beam Recorder on the Tera-Bytes Optical Data Storage and Nano-Photonics Fields |
|---|---|
| 作 者 | 陳建洋; 蘇建彰; 楊詔中; 黃世傑; 陳景宜; 石志聰; 李孝文; | 書刊名 | 光學工程 |
| 卷 期 | 86 2004.06[民93.06] |
| 頁 次 | 頁41-52 |
| 分類號 | 448.57 |
| 關鍵詞 | 電子束刻版機; 奈米光儲存; 奈米光子; 微影技術; Electron beam recorder; Lithography; Tera-bytes optical storage; Nano-photomics; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |
| 中文摘要 | 在探索奈米物理的世界中,由巨觀尺度往下發展首要工作係能產生奈米等級的圖案轉換工作,電子束刻版機因具備20nm~100nm範疇的光點尺度,無疑地是現階段最適合使用於0.1μm~0.3μm尺度的微影技術,目前正大量應用於奈米光儲存及奈米光子的圖案製作上。 |
| 英文摘要 | This limitation of top-down (lithography and etching to define the device structure) is exponentially raising the cost of microfabrication below the 0.3m scale. Electron Beam Recorder (EBR) is a specialized technique for creating the extremely fine patterns by the modern electronics industry for items like Tera-Bytes Storage Lithography and Nano-Photonics. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。