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題名 | 感應耦合電漿離子蝕刻製程應用於光通訊元件之開發研究=Development of Optical Communication Components by ICP-RIE Silicon Deep Dry Etching Process |
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作者 | 胡一君; 林郁欣; 殷宏林; 林暉雄; 周曉宇; Hu, Yi-chiuen; Lin, Yu-hsin; Yin, Hung-ling; Lin, Hui-ysiung; Chou, Hsiao-yu; |
期刊 | 科儀新知 |
出版日期 | 200302 |
卷期 | 24:4=132 2003.02[民92.02] |
頁次 | 頁54-62 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 感應耦合電漿離子; 蝕刻製程; 光通訊元件; |