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題名 | 厚膜光阻微影系統簡介= |
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作者 | 丁志華; 蔡來福; 陳建光; |
期刊 | 奈米通訊 |
出版日期 | 200305 |
卷期 | 10:2 2003.05[民92.05] |
頁次 | 頁30-42 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 厚膜光阻微影; 光罩對準曝光系統; 光阻塗佈顯影系統; 近接式曝光; 雙面對準; 楔形誤差補償前端; 關蓋旋塗技術; 反放射滴液法; Thick-photoresist lithography; Mask Aligner; Track; Proximity printing; Double-side alignment; Wedge error compensation head; WEC; Closed cover spin; GYRSET technology; Reverse radial dispense; RRD; |