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題 名 | 低溫液相沉積含氟二元氧化矽技術 |
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作 者 | 江世明; 梁沐旺; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 234 2002.09[民91.09] |
頁 次 | 頁140-147 |
專 輯 | 半導體設備技術專輯 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 液相沈積; 二氧化矽; 六氟矽酸; Liquid phase deposition; Silicon dioxide; Hydrofluosilicic acid; |
語 文 | 中文(Chinese) |