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來源資料
機械工業
230 2002.05[民91.05]
頁159-164
機械工程
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磨研機
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題名
化學機械拋光用之磨粒拋光墊研究
作者
何碩洋
;
左培倫
;
書刊名
機械工業
卷期
230 2002.05[民91.05]
頁次
頁159-164
專輯
輪磨與切削技術專輯
分類號
446.895
關鍵詞
化學機械拋光
;
磨粒拋光墊
;
磨粒加工
;
CMP
;
語文
中文(Chinese)
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