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- 題 名:
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編 次:
上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:5=53 1991.05[民80.05]
- 頁 次:
頁53-68
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
51 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁129-134
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁281-291
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
124 1997.04[民86.04]
- 頁 次:
頁122-135
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁75-86
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁69-78
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35 2003.09[民92.09]
- 頁 次:
頁49-57
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
83 1993.11[民82.11]
- 頁 次:
頁72-80
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- 題 名:
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編 次:
下
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
104 1995.08[民84.08]
- 頁 次:
頁106-113
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- 題 名:
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編 次:
上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
103 1995.07[民84.07]
- 頁 次:
頁109-116
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28 1990.05[民79.05]
- 頁 次:
頁59-66
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:1 1990.03[民79.03]
- 頁 次:
頁21-29
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題 名:
Materials and Processes in Microlithography for IC Fabrication:積體電路微影成像之材料與製程
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:2 1990.09[民79.09]
- 頁 次:
頁1-7
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題 名:
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題 名:
DQN Photoresist with Tetrahydroxydiphenylmethane as Ballasting Group in PAC:以四羥基二苯甲烷為感光物中間體之光阻劑研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:1 1991.04[民80.04]
- 頁 次:
頁23-27
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:2 1991.10[民80.10]
- 頁 次:
頁17-21
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2:1 1970.12[民59.12]
- 頁 次:
頁20-23
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
44:3=183 2015.09[民104.09]
- 頁 次:
頁53-60+105
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:3=86 2008.09[民97.09]
- 頁 次:
頁99-105