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- 題 名:
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- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁27-33
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題 名:
使用XR與XPS分析二氧化鉿薄膜退火之膜層結構變化:Layer Structure Analysis of Thin HfO₂ Film by XR and XPS Technique
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁4-12
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題 名:
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- 題 名:
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- 卷 期:
17:2 2010.06[民99.06]
- 頁 次:
頁2-8
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
12:2 2005.05[民94.05]
- 頁 次:
頁23-27
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
38:4 民95.12
- 頁 次:
頁228-234
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- 題 名:
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- 卷 期:
128 2009.07[民98.07]
- 頁 次:
頁59-63
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:9=170 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁141-158
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:1 2023.04[民112.04]
- 頁 次:
頁53-68
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:3 2017.09[民106.09]
- 頁 次:
頁8-12