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題 名:
原子層沉積之應用與未來發展趨勢:Applications and Future Development of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
464 2025.08[民114.08]
- 頁 次:
頁74-86
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:9=74 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁166-168
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題 名:
百公尺跑不同加速期的運動學分析:The Kinematical Analysis of Sprinting in Different Accelerated Phase
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4 民93.08
- 頁 次:
頁53-64
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:1 2013.02[民102.02]
- 頁 次:
頁1-8
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18:9=206 2012.09[民101.09]
- 頁 次:
頁104-119
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題 名:
高介電常數材料金氧半元件之發展:High Permittivity Gate Dielectric Materials for CMOS Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:1 2015.03[民104.03]
- 頁 次:
頁13-19
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:2 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁2-8
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:4 2011.10[民100.10]
- 頁 次:
頁31-42
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:3=176 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁129-135
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:1 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁12-17
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19 2005.06[民94.06]
- 頁 次:
頁135-140
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁65-73
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題 名:
氧化鈰薄膜在奈米級金氧半電容器之研究:The Study of CeO₂ Thin Film in the Application of MOSCs
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:1 2009.10[民98.10]
- 頁 次:
頁1-5
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:5=166 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁141-153
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2009.08[民98.08]
- 頁 次:
頁11-17
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2009.08[民98.08]
- 頁 次:
頁19-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:9=170 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁94-102
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4=141 2007.04[民96.04]
- 頁 次:
頁152-163
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2009.02[民98.02]
- 頁 次:
頁57-61
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:1 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁18-24
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