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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:2 1997.08[民86.08]
- 頁 次:
頁19-22
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:1 1998.03[民87.03]
- 頁 次:
頁26-29
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題 名:
IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究:Study on Synthesis and Lithographic Performance of 193nm Photoresist
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
84 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁67-83
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題 名:
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題 名:
適用於蛋白質晶片之新型光阻劑共聚物的設計與合成:Design and Synthesis of New Photoresist Copolymers for Protein Chip
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
1:1 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁57-62
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題 名:
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題 名:
溶解抑制劑--於193nm深紫外光光阻劑上之應用:Applications of Dissolution Inhibitors in 193mm Deep UV Photoresists
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
12:10 1998.10[民87.10]
- 頁 次:
頁40-49
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題 名: