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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:4=45 1999.04[民88.04]
- 頁 次:
頁116-139
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
177 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁150-158
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁1-4
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題 名:
直流式磁控濺鍍系統鍍製鋯及鋯基氮化物薄膜之探討:Study of Zr and Zr-nitride Thin Films by DC Magnetron Sputtering
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
46:4=180 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁137-142
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:1 1990.07[民79.07]
- 頁 次:
頁23-28
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題 名:
電漿輔助原子層沉積釕與氮化鉭薄膜製程研究:Ru and TaNx Thin Films Grown by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:3=224 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁86-96
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:12=185 2010.12[民99.12]
- 頁 次:
頁120-126
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18:1 2011.03[民100.03]
- 頁 次:
頁12-17
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題 名:
低溫微波退火應用於高介電薄膜/金屬閘極元件之研究:Study of High-k Metal-Gate by Low Temperature Microwave Annealing
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:3 2013.09[民102.09]
- 頁 次:
頁14-19
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題 名:
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