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- 題 名:
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- 卷 期:
78:6 民94.12
- 頁 次:
頁17-29
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- 題 名:
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- 卷 期:
33:4 2014.10[民103.10]
- 頁 次:
頁1-9
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:12=249 2013.12[民102.12]
- 頁 次:
頁66-83
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:12=249 2013.12[民102.12]
- 頁 次:
頁84-94
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:1 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁45-53
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題 名:
常壓電漿疏水抗污技術:Cover-Glass Anti-Stain Technology by Atmospheric Pressure Plasma
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
399 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁107-115
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:1 2017.03[民106.03]
- 頁 次:
頁16-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
83 民94.07
- 頁 次:
頁134-143
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
351 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁75-88
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題 名:
電壓電漿設備技術:A Review of Atmospheric Pressure Plasma System Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁91-102
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:8=197 2009.08[民98.08]
- 頁 次:
頁68-85
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題 名:
常壓電漿在機能性表面處理的技術與應用:Application and Technology of Atmospheric-Pressure Plasma in Surface Treatment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32 民95.02
- 頁 次:
頁22-27
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:11=203 2007.11[民96.11]
- 頁 次:
頁140-149
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
287 2007.02[民96.02]
- 頁 次:
頁157-162
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題 名:
感應耦合電漿蝕刻化學氣相沉積多晶鑽石膜之研究:Investigation of ICP Etching of CVD Diamond Film
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
287 2007.02[民96.02]
- 頁 次:
頁163-169
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18:11=215 2008.11[民97.11]
- 頁 次:
頁136-140
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:2 2015.12[民104.12]
- 頁 次:
頁4-12
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:3 2021.07[民110.07]
- 頁 次:
頁21-26
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
42:3 2023.09[民112.09]
- 頁 次:
頁7-13
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題 名:
常壓電漿束於矽蝕刻之應用:Silicon Wafer Etching Technology by Atmospheric-Pressure Plasma
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
414 2017.09[民106.09]
- 頁 次:
頁65-71
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題 名: