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AZO薄膜濺鍍技術與應用:Magnetron Sputtering Technology for AZO Thin Film Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
281 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁42-48
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
373 2014.04[民103.04]
- 頁 次:
頁18-28
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁82-91
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- 題 名:
電漿製程設備之電控系統技術:Electronic Control System Technology of Plasma Processing Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
387 2015.06[民104.06]
- 頁 次:
頁107-119
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:3 2010.09[民99.09]
- 頁 次:
頁203-209
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- 題 名:
大面積電容耦合射頻電漿源模組技術:Technologies of LArge Area Very High Frequency Capacitively Coupled Plasma Source
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁99-106
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁107-116
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- 題 名:
AZO薄膜濺鍍技術與應用:Magnetron Sputtering Technology for AZO Thin Film Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁30-36
- 題 名:
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- 題 名:
應用3D多體積方法模擬LPCVD之氣流場:The Simulation of Flow Field in LPCVD Using 3D Volumes Method
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁87-95
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁81-87
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁96-103
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- 題 名:
電漿蝕刻技術於晶圓切割產業之應用:Application of Plasma Etching Technology in Wafer Dicing
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
438 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁43-51
- 題 名:
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- 題 名:
電漿深蝕刻設備及其製程技術:Introduction of Plasma Deep Etching Equipment and Process Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
426 2018.09[民107.09]
- 頁 次:
頁55-61
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
463 2021.10[民110.10]
- 頁 次:
頁56-62
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- 題 名:
電漿離子能量分佈量測技術:Diagnostic Technology for Plasma Ion Energy Distribution
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
475 2022.10[民111.10]
- 頁 次:
頁45-53
- 題 名: