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題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
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題 名:
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題 名:
原子層沉積技術之發展與應用:Development and Application of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
198 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁38-46
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題 名:
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題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
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題 名:
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題 名:
原子層沉積製程技術於能源材料之應用:Applications of Atomic Layer Deposition on Energy Materials
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
222 2020.03[民109.03]
- 頁 次:
頁35-47
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題 名: