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- 卷 期:
12:2 1999.07[民88.07]
- 頁 次:
頁5-17
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- 題 名:
- 作 者:
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- 卷 期:
12:3 1999.10[民88.10]
- 頁 次:
頁4-15
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:4 2001.12[民90.12]
- 頁 次:
頁47-55
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- 題 名:
- 作 者:
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- 卷 期:
13:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁4-14
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁15-19
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁25-32
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁38-47
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁67-72
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:1 2001.04[民90.04]
- 頁 次:
頁34-40
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- 題 名:
退火氣氛及溫度對ATO薄膜影響之研究:The Effects of Annealing Atmosphere and Temperature on ATO Films
- 作 者:
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- 卷 期:
14:3 2001.10[民90.10]
- 頁 次:
頁17-21
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
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- 卷 期:
14:3 2001.10[民90.10]
- 頁 次:
頁22-28
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- 題 名:
基板偏壓對反應濺鍍TiAlN鍍層的影響:Effects of Substract Bias on the Reactive Sputtered TiAlN Films
- 作 者:
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- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁13-18
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁19-26
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- 題 名:
微波電漿化學氣相法沈積SiNC硬膜及其特性分析:Growth and Characterization of SiNC Hard Film by MPCVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁27-33
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁4-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁32-35
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁5-10
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- 題 名:
奈米磁線的製作與特性分析:Fabrication and Analysis of Nano Magnetic Patterns
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- 卷 期:
16:1 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁43-51
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- 卷 期:
15:1 2002.04[民91.04]
- 頁 次:
頁23-33