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XeF準分子雷射退火之低溫多晶矽薄膜再結晶特性研究與分析:Characteristic Analysis of Low Temperature Polycrystalline Silicon Thin Films Prepared by XeF Excimer Laser Annealing
郭啟全 葉文昌 鄭正元 陳佳斌 Kuo, Chil-chyuan; Yeh, Wen-chang; Jeng, Jeng-ywan; Chen, Chia-bin;
明志學報
37:2 民95.01
頁17-23
TCI引用統計